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物理蒸着（PVD）コーティング
物理蒸着（PVD）コーティング
PVD技術は、高真空中で高電流・低電圧でアーク放電を発生させ、金属ターゲットに衝突させることにより、陰極アーク光とプラズマフローを引き起こします。その後、被コーティング物の基板端に負のバイアス電源を供給し、解離された正電荷のイオンを基板端に引き寄せ、薄膜を堆積します。
利点：
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競争力のあるコスト（自動化されたインライン配置が容易）
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厚さ精度（±0.1um）
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優れたカバレッジコーティング能力
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PVDチャンバー型設備
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